Введение
5
ГЛАВА I. КРАТКИЙ ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР
14
§1.1
Особенности дефектообразования при обработке монокристаллов твердых тел…………………………………………………………………
16
§1.2
Структура и модель поверхности грани (111) кремния ………….......…
22
§1.3
Изменение совершенства структуры поверхности монокристаллов при ионном распылении и последующей термообработке ……………...………………………………………………………………..
26
§1.4
Состав, структура и электронные свойства нанопленочных слоистых структур……………………………………………………………………
49
ГЛАВА II. ТЕХНИКА ЭКСЕРИМЕНТА И МЕТОДЫ ИССЛЕДОВАНИЯ СТРУКТУРЫ И СОСТАВА ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ И НАНОКРИСТАЛЛОВ НА ЕГО ОСНОВЕ……………………………………………………………….…
63
§2.1
Общая характеристика проблемы …………………………….…………..
63
§2.2
Описание экспериментальных сверхвысоковакуумных установок…….
64
§2.3
Вакуумные условия…….…………………………………………………
69
§2.4
Метод дифракции медленных электронов для контроля совершенства структуры поверхности……………………………………………………
70
§2.5
Метод дифракции электронов средних энергий для контроля структуры приповерхностных слоев……………………………………...
75
§2.6
Методы контроля элементного и химического состава поверхности образцов………………….………………………………………………..
77
§2.7
Измерение углового профиля дифракционного рефлекса как способ оценку распределения по размерам упорядоченных участков на
84
3
поверхности монокристалла…………………………………………..…
ГЛАВА III. КРИСТАЛЛИЧЕСКАЯ СТРУКТУРА, И ПАРАМЕТРЫ РЕШЕТОК НАНОСТРУКТУР СОЗДАННЫХ НА ПОВЕРХНОСТИ SI МЕТОДОМ ВЫСОКОВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ…………………………………………………………….
89
§3.1
Изучение сверхструктур на поверхности кремния в зависимости от режимов термообработки и энергии электронов…………………….…
89
§3.2
Переходные структуры при формировании двумерных пленок NaCl и Bi на поверхности монокристалла кремния……………………………...
97
§3.3
Исследование совершенства структуры поверхности при твердофазной эпитаксии пленок Ge на Si(111)………………..…………
102
§3.4
Исследование влияния электронного зонда ДМЭ на физико-химическое состояние поверхности……………….……………………..
107
ГЛАВА IV. ПРОЦЕССЫ НА ПОВЕРХНОСТИ, СТИМУЛИРОВАННЫЕ НИЗКОЭНЕРГЕТИЧЕСКИМИ ПУЧКАМИ ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ………………………………..
122
§4.1
Аморфизация поверхности Si(111) при низкоэнергетической ионной бомбардировке щелочных металлов……………………...………...……
122
§4.1.1
Современные методы машинного моделирования и модельные представления выбранной программы…………………………………..
122
§4.1.2
Анализ результатов компьютерного моделирования……………………
126
§4.1.3
Сравнение теории с экспериментальными энергетическими и дозовыми зависимостями аморфизации………………………………….
128
§4.2
Получение тонких слоев на поверхности Si(111) из низкоэнергетических ионных пучков щелочных металлов…………….
134
§4.3
Дефектообразование при низкотемпературномоблучении ионами
4
низких энергий ……………………..………………..................................
141
§4.4
Комплексное исследование состава и структуры приповерхностных слоев ионно-имплантированного кремния при термообработке……….
151
§4.5
Особенности формирования наноразмерных структур на поверхности кремния при ионной имплантации и напылении……………….………
160
ГЛАВА V. ИЗУЧЕНИЕ СОСТАВА И СТРУКТУРЫ НАНОПЛЕНОЧНЫХ МДП И ПДП ГЕТЕРОСТРУКТУР ПОЛУЧЕННЫХ НА ОСНОВЕ КРЕМНИЯ………………………….
170
§5.1
Оценка параметров энергетических зон и плотности электронных состояний нанокристаллов и нанопленок силицидов металлов ………………………………………………………………………………
170
§5.2
Влияние ионной бомбардировки на профиль распределения примесных атомов по глубине приповерхностных слоев кремния применяемых в солнечных элементах и диодных структурах ……………………………………………………………………………….
180
§5.3
Эмиссионные свойства и глубина выхода истинно-вторичных электронов нанопленок силицидов ……………………………..………..
188
§5.4
Влияние имплантации ионов Cr+ и импульсного ионного отжига на формирование и оптические свойства гетероструктур Si/CrSi2/Si(111)
191
Заключение………………………………………………………………..
197
Литература………………………………………………………..
199
