СОКРАЩЕНИЯ СЛОВ, ИСПОЛЬЗУЕМЫЕ В ТЕКСТЕ
ДИССЕРТАЦИИ. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 4
ВВЕДЕНИЕ. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
ГЛАВА І. ОБЗОР ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫХ РАБОТ ПО
УВЕЛИЧЕНИЮ ЧУВСТВИТЕЛЬНОСТИ ВИМС И
ВОЗМОЖНОСТИ ИСПОЛЬЗОВАНИЯ ЭТОГО МЕТОДА ДЛЯ
КОЛИЧЕСТВЕННОГО АНАЛИЗА СОСТАВА ПОВЕРХНОСТИ
ТВЕРДЫХ ТЕЛ. . . .
5
13
§ 1.1. Использование ВИМС для количественного анализа. . . . . . . . . . . 13
§ 1.2. Стимулирование ВОИЭ. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 14
§ 1.3. Масс–спектры отрицательных молекулярных и кластерных
ионов. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
17
§ 1.4. Определение коэффициентов ионизации твердого тела в виде
отрицательных ионов. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 27
§ 1.5.
§ 1.6.
§ 1.7.
Применение вторичной ионной масс-спектрометрии для
изучения свойств перспективных материалов, в том числе
наноструктур. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
Выводы по главе I. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
Постановка задач исследования диссертационной работы . . . . . .
34
40
41
ГЛАВА ІІ. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ УСТАНОВКА И МЕТОДИКА
ИССЛЕДОВАНИЯ ВИМС. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 43
§ 2.1. Экспериментальная установка . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 43
§ 2.2.
§ 2.3.
§ 2.4.
§ 2.5.
Методика исследования. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
Принципиальная электрическая схема установки. . . . . . . . . . . . . .
Оценка погрешностей эксперимента . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
Выводы по главе II . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
49
55
56
57
ГЛАВА ІІІ. СРАВНИТЕЛЬНЫЙ АНАЛИЗ ВЫХОДА ВТОРИЧНЫХ
ОТРИЦАТЕЛЬНЫХ ИОНОВ С ПОВЕРХНОСТИ ОБРАЗЦОВ Al, Cu,
Mo, W, WO2, Si-Me, Si и SiO2, СТИМУЛИРОВАННЫХ
РАЗЛИЧНЫМИ СПОСОБАМИ. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 593
§ 3.1. Ионно-ионная эмиссия с поверхности Cu. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 61
§ 3.2. Изучение влияния напыления атомов щелочных металлов на
отрицательную ионную эмиссию исследуемых образцов. . . . . . . . 64
§ 3.3. Определение оптимальных условий ионной имплантации и
отжига для стимулирования вторичной отрицательной ионной
эмиссии. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 68
§ 3.4. Влияние низкоэнергетической имплантации ионов Ва+ на состав
и эмиссионные свойства W и WO2. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 78
§ 3.5. Изучение профилей распределения атомов по глубине
свободных нанопленочных систем типа Si-Me. . . . . . . . . . . . . . . . .
82
§ 3.6. Стимулирование вторичной отрицательной ионной эмиссии с
поверхностей Si, SiO2 и Cu ионной имплантацией и
последующим нагревом. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 86
§ 3.7. Выводы по главе ІІІ. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 93
ГЛАВА IV. МАСС–СПЕКТРОМЕТРИЧЕСКИЙ АНАЛИЗ ВЫХОДА
ОТРИЦАТЕЛЬНЫХ ВТОРИЧНЫХ ИОНОВ С ПОВЕРХНОСТИ
ПРОМЫШЛЕННЫХ ОБРАЗЦОВ Al, Cu, W и Mo . . . . . . . . . . . . . . . . . . 95
§ 4.1. ВИМС поверхности промышленных образцов Al и Cu до и после
покрытия атомами щелочных металлов. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 95
§ 4.2. Изучение отрицательной ионной эмиссии промышленных
образцов, подвергнутых очистке высокотемпературной
обработкой. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 100
§ 4.3. Изучение элементного состава поверхности и профиля
распределения примесей в проволоках тугоплавких металлов. . . . 103
§ 4.4. Изучение распределения углерода в срезах молибденового
штабика. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 107
§ 4.5. Выводы по главе IV . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 112
ЗАКЛЮЧЕНИЕ. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
114
СПИСОК ОПУБЛИКОВАННЫХ РАБОТ. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННОЙ ЛИТЕРАТУРЫ. . . . . . . . . . . . . . . . . . .
116
120
ПРИЛОЖЕНИЯ. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
135
